会社情報｜株式会社ニッカテクノ

会社情報

当社は市場ニーズを的確に把握し、高品質な製品を安定、且つ迅速に供給する企業を目指します。
当社は「環境、安全」を最重要課題の一つとし、社会ルールを遵守し社会貢献する企業を目指します。

1927年: 中山義春が京都市左京区一乗寺に「中山研究所」を設立。ガラスにセルロイドを塗布し、剥した樹脂膜に金箔や金属粉をふりかけた”エナメル箔”を開発。その後グラフシン紙、セロファン紙を素材とする転写箔の研究に着手。
1930年: 手動の作業方法を考え、塗装機を設備し動力化。
1958年 6月: 商号を「中山化学研究所」とし、ポリエステルフィルムを素材とした金属蒸着箔を試作。
1963年 6月: 真空蒸着機を導入し試作を始める。
1964年 5月: 真空蒸着箔を完成。
1964年 10月: 東京オリンピックの年に弊社が日本で初めて真空蒸着箔の開発に成功し、森永ゴールドチョコレートのパッケージに日本で初めて真空蒸着箔が採用されました。
1965年 10月: 中山義春が蒸着箔の将来構想を固め、中山幸次郎と中山太一郎をして京都市南区吉祥院に工場を建築。
1966年 8月: 真空蒸着機を設備、量産体制に入る。
1968年 3月: 資本金1.000万円で「日本化学箔工業株式会社」を設立。
1968年 10月: 京都市南区上鳥羽に本社･工場を建設。
1969年 3月: 中山幸次郎と中山太一郎が代表取締役に就任。
1969年 4月: 中山幸次郎、製造用金属箔フィルムの製造方法に関し、科学技術の振興に貢献したことにより、京都府知事から表彰を受ける。
1969年 6月: 資本金を3.000万円に増資。
1976年 8月: 上鳥羽工場増設完成。
1979年 5月: 上鳥羽工場内に福利厚生ビル完成。
1979年 6月: 株式会社ニュープレイティングから「高周波イオンプレイティング技術」に関する特許の実施権を取得。
1981年 9月: 久御山工場完成。
1988年 11月: 久御山第二工場完成。
1991年 12月: 久御山工場内に品質管理センター完成。
1992年 5月: 「株式会社ニッカテクノ」に社名変更。
1992年 12月: 大阪税関より保税工場を許可される。
1993年 6月: 米国より「フォトエッチング」技術の製造販売権を取得する。
1997年 1月: 「フォトエッチング」技術開発に着手する。
2000年 6月: 「ホログラム転写箔」の製造･販売を開始する。
2003年 7月: 「ホログラム転写箔」のラージタイプの製造販売を開始する。
2005年 7月: 日本たばこ産業(株)「ピアニッシモ･ペシェ」に日本で初めてホログラム転写箔が採用される。
2006年 7月: ホログラム転写箔「PNK PLANET NAKO」製造販売開始。
2007年 1月: ホログラフィー”2D””3D”の一覧設備を導入する。
2008年 1月: IHMA(国際ホログラム製造者協会)に加盟
2010年 12月: JT（日本たばこ産業株式会社）「ピアニッシモルーシア」に日本で初めてコールドホログラムが採用される。
2011年 10月: 「ホログラフィーシームレス」の一覧設備を導入する。
2012年 3月: 中山仁が代表取締役に新たに就任する。
2013年 4月: 欠点検査装置、スリッター機、新たに導入。
2014年 5月: 中山幸次郎　相談役に就任する。
2016年 6月: 北工場　完成
2016年 8月: 久御山工場　リニューアル
2017年 3月: 本工場　リニューアル
2017年 3月: 中山仁が代表取締役社長に就任する。